화학공학소재연구정보센터
  • 회전식 무전극 마이크로웨이브에 의한 살균소독 및 고도처리장치와 그 이용방법
  • 국제 특허분류 : C02F-001/48, C02F-001/32, C02F-001/78
  • 출원번호/일자 : 10-2011-0045774 (2011/05/16)
  • 공개번호/일자 : 10-2012-0127957 (2012/11/26)
  • 출원인 : 유림엔마텍(주)
  • 본원은 고주파 마그네트론과 회전식 무전극 마이크로웨이브에 의한 살균소독 및 고도처리장치와 그 이용방법에 관한 것으로, 고주파 마그네트론과 무전극 진공램프, 마이크로웨이브와 광촉매의 융합반응에 의한 수중 저온 프라즈마 생성으로 수산기(OH-) 라디칼을 발생시켜 강력한 살균 및 소독과 난분해성 고농도 오염물질의 분해 및 제거가 가능한 고도처리공법에 관한 것이다.
    본원은 고도처리반응조가 마이크로웨이브조사부와 광화학반응조로 구분되는 구성을 이루되, 광화학반응조의 중심부에는 무전극 진공램프가 일체로 회전판에 연결되어 수평으로 회전되는 수평회전체를 이루고, 상기 수평회전체의 외부 일측에 마련되는 마이크로웨이브조사부에서는 다수개의 마그네트론 및 도파관을 갖고 수평회전체 외연으로 마이크로웨이브를 조사하는 구성을 포함하여 제공되고 상기 광화학반응조의 측벽부가 TiO2 광촉매 코팅층을 갖도록 제공되며 마이크로웨이브조사부와 광화학반응조 사이에 TiO2 광촉매 코팅층을 갖는 투명석영관이 설치되되, 투명석영관이 다공구조를 갖도록 제공되는 구성을 갖는 고도처리장치에 관한 것이다.
  • 원문링크 : KISTI NDSL