화학공학소재연구정보센터
학회 한국화학공학회
학술대회 2005년 봄 (04/22 ~ 04/23, 여수대학교)
권호 11권 1호, p.180
발표분야 공정시스템
제목 Development of Real-Time Process Monitoring and Prediction System using Process Simulator
초록 화학공정에서 사용되는 장치들에는 CDU정도의 대형공정뿐만 아니라 소규모의 장치일지라도 수많은 공정변수들이 존재한다. 이런 변수들은 제어용 PC혹은 DCS시스템 등을 통하여 감시되고 있으나, 대부분의 경우 변수의 숫자가 너무 많고, 또한 원활한 조업을 위한 공정변수의 예측은 하지 못하고 있다. 이에 본 연구에서는 엄밀공정모사 software를 사용하여 공정을 모사하고, 모사된 결과를 장치 제어용 PC 혹은 DCS system과 연결하여 공정 변수를 진단하고 예측하는 시스템을 개발하였다.
저자 이기홍1, 이승현1, 김기수2, 허형회2, 이문용1
소속 1영남대, 2(주)에이드
키워드 Process Monitoring; Prediction; Simulator; CDU
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