화학공학소재연구정보센터
번호 제목
14 Replacement of Copper Diffusion Barrier using Chemical Analysis of Self-Assembled Monolayer
Minkyu Lee, Taeyoon Lee
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
13 Study of Functional Group of Self-Assembled Monolayer and its Chemical Analysis
Minkyu Lee, Taeyoon Lee
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
12 Oxide semiconductor thin film transistor using self-assembled molecular as gate insulator
이승민, 이민규, 이태윤
한국재료학회 2019년 가을 학술대회
11 Atomic Layer Deposition of low-k SiCN Thin Films using DTDN-2 precursor
김현준, 임경필, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
10 Characterization of Cu-Mn/Ta layer as Cu diffusion barrier on low-k dielectric
강민수, 박재형, 한동석, 정연재, 박종완
한국재료학회 2015년 봄 학술대회
9 Investigation about TaN diffusion barrier properties of Cu gate TFT with Al2O3 and HfO2 gate insulator
김동현, 김형준, 우황제, 남태욱, 정한얼
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
8 Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy
박재형, 한동석, 강민수, 박종완
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
7 Characteristics of Organic Barrier layer using Layer-by-Layer deposition method
정대균, 이치영, 이재갑
한국재료학회 2014년 봄 학술대회
6 Self-forming Ti oxide barrier for nanoscale Cu interconnects created by hybrid atomic layer deposition (ALD) of Cu-Ti alloy

한국재료학회 2014년 봄 학술대회
5 Investigation of vanadium-based thin interlayer for Cu diffusion barrier
한동석, 박종완, 문대용, 박재형, 문연건, 김웅선, 신새영
한국재료학회 2011년 봄 학술대회