검색결과 : 14건
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갈바니 치환 증착 방법을 이용한 확산방지막 위에서의 구리 시드층 형성 김재정, 강무성 HWAHAK KONGHAK, 39(6), 721, 2001 |
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다결정 실리콘 식각 후처리에 대한 세정 효과 해석 이창원, 이종대, 최상준, 김재정 HWAHAK KONGHAK, 38(2), 230, 2000 |
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[행사보고] 제3회 CVD 심포지엄을 마치며 김재정 News & Information for Chemical Engineers, 18(5), 652, 2000 |
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[특집: 반도체 공정] ULSI 시대의 식각/세정공정 김재정 Chemical Industry and Technology, 13(3), 240, 1995 |