TY - JOUR PY - 2010 J2 - Curr. Appl. Phys. SN - 1567-1739 T2 - Current Applied Physics VL - 10 IS - 1 DO - 10.1016/j.cap.2009.12.018 TI - Size dependence of TiN/HfO2/Ti MIM ReRAM resistance states: Model and experimental results UR - https://www.cheric.org/research/tech/periodicals/view.php?seq=990060 KW - Resistance switching KW - Metal oxide KW - Damage AU - Chen FT AU - Lee HY AU - Chen YS AU - Chen PS AU - Gu P AU - Chen CW AU - Hsu YY AU - Liu WH AU - Chen WS AU - Tsai MJ AU - Lo SC AU - Lai MW SP - E75 EP - E78 LA - English ER -