화학공학소재연구정보센터
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  • 3D 프린터 출력물 표면처리용 조성물 및 이를 이용한 표면처리 방법
    본 발명은 용융 적층 모델링(fused deposition modeling, FDM) 방식 3D 프린터 출력물의 표면 처리 효율성을 높이는 기술에 관한 것으로서, 신규한 3D 프린터 출력물 표면처리 조성물을 제공함으로써, 3D 프린터 ...
  • MOCVD 공정용 TMIn 증착 용기
    MOCVD(metal-organic chemical vapor deposition) 공정용 TMIn 증착 용기를 개시한다. TMIn 증착 용기는 상부가 개구되며, 측면에 캐리어 가스가 인입되는 제1 포트가 구비된 원통형 제1 하우징; 상부가 개구되며...
  • GTL 공정에서 메탄의 수증기/CO2 복합 개질 방법
    본 발명은 메탄으로부터 합성연료를 제조하는 방법에 있어서, 니켈촉매 멤브레인 상에서, 반응물의 (CO2+H2O)/CH4의 몰비가 2.0 ~ 4.0으로 유지되는 조건에서 메탄을 수증기와 이산화탄소로 동시에 복합 개질 반...
  • 증착 반응기 장치 및 방법
    본 발명은 ALD(Atomic Layer Deposition)장치와 같은 장치에 대한 것으로서, 이러한 장치는 순차적 자기-포화 표면 반응에 의해 증착 반응기의 가열된 기판상에 물질을 증착하는 구조로된 전구체 소스를 포함한다...
  • 증착 반응기 장치 및 방법
    본 발명은 ALD(Atomic Layer Deposition)장치와 같은 장치에 대한 것으로서, 이러한 장치는 순차적 자기-포화 표면 반응에 의해 증착 반응기의 가열된 기판상에 물질을 증착하는 구조로된 전구체 소스를 포함한다...
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