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        • 윤활식 의료 주입 장치 내에 유제­보조 백신을 보관하기 위한 방법
          본 발명은 윤활제 코팅을 포함하는 의료 주입 장치에 유제-보조 백신을 보관하기 위한 방법에 관련하며, 상기 방법은 (a) 내부 표면(21)을 갖는 배럴(2)을 포함하는 의료 주입 장치(1)를 제공하는 단계, (b) 백신...
        • 고압 전자파 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치 및 이를 이용한 질소산화물생산
          본 발명은 플라즈마 토치를 이용한 반응 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 고압 조건에서 플라즈마를 발생시키고 반응할 시킬 수 있는 반응 장치에 관한 것이며, 이 장치를 이용한 질소산화물의 합성 방법...
        • 정유 공정 로를 위한 알루미나-형성 이원금속 관 및 이의 제조 및 사용 방법
          본 발명은 (i) 스테인레스 강의 총 중량을 기준으로 15.0 내지 26.0 중량%의 크롬을 포함하는 스테인레스 강으로부터 형성된 외부 관 층; (ii) 5.0 내지 10.0 중량%의 Al, 20.0 내지 25.0 중량%의 Cr, 0.4 중량% ...
        • 마이코플라즈마 하이요뉴모니아 백신
          본 발명은 마이코플라즈마 하이요뉴모니아(Mycoplasmahyopneumoniae) 전체 세포 제제의 가용성 부분을 포함하는 면역원성 조성물을 제공하고, 이때 마이코플라즈마 하이요뉴모니아 제제의 가용성 부분은 (i) IgG ...
        • 높은 필름 밀도 및 높은 에칭 선택비를 갖는 비정질 탄소 층의 증착
          여기에서 설명된 실시예들은 기판을 프로세싱하기 위한 방법에 관한 것이다.일 실시예에서, 방법은 탄화수소 가스 및 희석 가스를 포함하는 가스 혼합물을 프로세싱 시스템 내에 로케이팅된 증착 챔버 내로 도입...
        • 반도체 장치의 제조 방법, 기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
          기판을 처리실 내에 수용하는 공정; 및 상기 처리실 내로 금속 원소를 포함하는 원료 가스와 질소 함유 가스와 수소 함유 가스를 공급하여 상기 기판 상에 금속 질화막을 형성하는 공정;을 포함하고, 상기 금속 ...
        • 코팅된 전기 어셈블리
          본 발명은 컨포멀 코팅을 갖는 전기 어셈블리에 관한 것으로, 여기서 상기 컨포멀 코팅은 하기 화학식 1의 화합물의 플라즈마 중합 단계 및 최종 중합체의 증착 단계, 및 플루오로탄화수소의 플라즈마 증착 단계 ...
        • 기판 에칭 방법 및 기판 처리 장치
          기판 에칭 방법 및 기판 처리 장치에 있어서, 기판 에칭 방법은, 처리 예정인 기판을 반응 챔버 내에 넣는 단계(S1); 상기 반응 챔버 내에 에칭 가스를 공급하는 단계(S2); 여자 전원을 턴 온 하여 상기 반응 챔...
        • 무전해 구리 증착
          무전해 도금을 제공하는 방법이 제공된다.탄화수소, H2, 산소 프리 (free) 희석제를 포함하는 증착 가스의 플로우 (flow) 를 제공하는 단계, 증착 가스로부터 플라즈마를 형성하는 단계 및 증착 가스의 플로우를 ...
        • 마이크로파 플라즈마 처리 장치, 슬롯 안테나 및 반도체 장치
          본 발명은 마이크로파 플라즈마 처리 장치를 적절하게 냉각시키는 것을 목적으로 한다.마이크로파 플라즈마 처리 장치는, 하나의 실시형태에 있어서, 냉각 플레이트를 갖는다.또한, 마이크로파 플라즈마 처리 장...